氮化硅
中文名：氮化硅
CAS：12033-89-5
中文别名：氮化硅(IV),Α-相;氮化硅(IV),99.3%(METALSBASIS),通常90%Β-相;氮化硅(IV),Α-相,99.9%(METALSBASIS);氮化硅(IV),无定形,96+%;氮化硅(IV),无定型,98.5+%;氮化硅(IV),电子级,99.85%(METALSBASIS),90+%ALPHA-PHASE;纳米氮化硅;氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶,50.8MM(2.0IN)直径X3.18MM(0.125IN)厚,99.9%(METALSBASIS)
英文名：Silicon nitride
性质：熔点;1900 °C 密度;3.44 g/mL at 25℃(lit.) 折射率;2.8 RTECS号 VW0650000 形态 powder 颜色 Pale gray 水溶解性;Insoluble water. Merck;14,8497 稳定性 Stable. CAS 数据库 12033-89-5(CAS DataBase Reference)
用途：毒性 见β碳化硅粉末。 化学性质;灰白色α晶型粉末。由于它具有金刚石型三维晶格结构，所以具有高温热稳定性、抗热震性、化学稳定性和良好的电绝缘性及质硬性。氮化硅熔点1900℃，相对密度3.44。在空气中加热到1450～1550℃仍稳定。易溶于氢氟酸，不溶于冷、热水及稀酸，对于浓硫酸和浓氢氧化钠溶液作用也极缓慢。 用途;氮化硅粉末作为工程陶瓷材料，在工业上有广泛用途。主要用于超高温燃气透平，飞机引擎，透平叶片，热交换器，电炉等。也可作耐热涂层，用于火箭和原子能反应堆。 用途;主要用作功能陶瓷材料原料，非铁金属的耐熔材料，飞机引擎，燃气输机喷嘴、轴承等高温结构材料和耐热涂层以及研磨、切削、电炉等的材料。 生产方法;主要有硅粉直接氮化法、二氧化硅还原法和氯化硅法。在大规模工业生产中，二氧化硅还原法更为人们所重视。 二氧化硅还原法二氧化硅粉末100份(重量份，下同)，混入炭黑35份，尿素树脂100份，然后加入800份水、0.1份氧化铝(作反应核用)、1份草酸铵和0.3份非离子表面活性剂(作分散剂)，进行强搅拌，并在搅拌中加入氨水调整Ph值为9.0。将此混合好的料浆喷雾干燥，所得干燥物在电炉中，在氮气氛中，在1480℃进行3 h氮化还原反应。再将还原反应产物于。720℃，在空气中进行脱炭处理，制得氮化硅粉末成品。 SiO2+C→SiO+CO 3SiO2+3C+N2→Si3N4+3CO
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